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SIC(碳化硅)涂層加工

愛銳精密科技(大連)有限公司提供CVD-SIC(碳化硅)表面涂層加工服務。

同時我們還提供TaC(碳化鉭)涂層加工,PG(Pyrolytic Graphite,熱解石墨,熱解碳)涂層加工,GC(Glassy Carbon,玻璃碳)含浸加工等高溫耐氧化涂層加工服務。

● CVD-SIC涂層加工服務介紹:

CVD-SIC涂層具有結構均勻,材質致密,耐高溫、抗氧化、純度高和耐酸堿鹽及有機試劑等特性,物理化學性能穩定。

與高純度石墨材料相比,高純石墨材料在400℃環境下開始發生氧化,長期使也會因氧化而掉粉末,造成周邊器件,真空腔體內的環境污染,增加高純環境的雜質。但SIC涂層可以在1600度環境下保持物理,化學性能穩定,現代工業,特別是半導體工業中得到廣泛應用。最為突出的使用例為LED生產中的MOCVD的晶圓托盤,長期在1200度環境下使用亦可保持穩定性。其它行業也有逐漸取代單純的高純石墨材料的趨勢。
本公司提供的SIC涂層(鍍層)加工服務是以CVD(化學氣相沉積)法在石墨,陶瓷等材料表面,使含碳與硅的特使特種氣體在高溫下發生化學反應,得到高純度SIC分子,分子沉積在被涂材料表面,形成SIC保護層。形成的SIC牢牢巴結在石墨基體上,賦予石墨基體特殊的性能,從而使石墨基座表面致密、無孔隙、耐高溫、抗溶蝕、抗氧化。
CVD-SIC加工

CVD-SIC涂層加工圖解

 

● 主要特點:
1.高溫抗氧化:抗氧化,溫度高達1600℃時抗氧化性能仍然非常好。
2.純度高:高溫氯化條件下化學氣相沉積方法制得的。
3.耐沖刷:硬度高、表面致密、顆粒細。
4.抗腐蝕性:耐酸、堿、鹽及有機試劑。
CVD-SIC反應原理

CVD-SIC涂層形成過和示意圖(原理圖)

 

● CVD-SIC涂層的主要規格:

材質記號 SiC-CVD
比重 (g/cc) 3.21
曲げ強度 (Mpa) 470
熱膨張 (10-6/K) 4
熱伝導 (W/mK) 300

 

● CVD-SIC涂層的產品應用:
單晶硅外延生長用的石墨基座涂層,平板基座、圓形基座、立體基座的涂層。

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